勻膠顯影機 型號：SC100-DE
　　SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。 

　　不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。 
主要性能指標： 
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）  
旋涂程序：zui多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒  
轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）  
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm  
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm  
工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）  
標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水） 



產(chǎn)品特性優(yōu)點： 
主機在SC100-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 

全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果  
可實現(xiàn)zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干  
控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便 

顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置  
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計  
高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選  
可添加去邊膠和背膠清洗功能